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PECVD沉積
PECVD沉積可選配一個三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創建高密度等離子，從而控制薄膜應力。

型號： Minilock-... 所在地：香港特別行政區參考價：面議更新時間：2024/6/17 16:46:47 對比

薄膜沉積PECVD沉積
Trion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統
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化學氣相沉積沉積系統薄膜沉積
磁控濺射系統
GSC-1000磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱（高可加熱到700度）功能，大到6“旋轉平臺，大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達1...

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Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統
Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統可以在緊湊的平臺上生產高品質的薄膜。*的反應器設計可以在在極低的功率生產具有優異臺階覆蓋的低應力薄膜。該系...

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高真空熱蒸發鍍膜儀
德國韋氏納米系統專門為大學，研究機構提供了一系列高真空/超高真空桌面型熱蒸發鍍膜工藝平臺。

型號： VapourSta... 所在地：香港特別行政區參考價：面議更新時間：2019/1/15 17:05:07 對比

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